화학 플랜트의 가스 소스 압력 설정은 일반적으로 다음 규칙과 함께 특정 공정 요구 사항 및 장비 특성과 결합해야합니다.
1. 기본 압력 범위
대부분의 화학 플랜트의 가스 소스 압력은 5-8 bar 범위에 집중되어 있습니다. 이 범위는 시스템 안전 및 경제성을 고려하면서 대부분의 공정 장비 (예: 공압 밸브, 계측기 제어, 재료 취급 등) 의 작동 요구 사항을 충족시킬 수 있습니다. 너무 낮은 압력은 장비 전력 부족으로 이어질 수 있으며 너무 높은 압력은 파이프 라인 누출 및 에너지 소비의 위험을 증가시킬 수 있습니다.
2. 특별 한 프로세스 요구 사항
: 일부 정제 또는 고 에너지 공정에는 더 높은 압력이 필요할 수 있습니다. 예를 들어, 일부 반응기 재료는 반응 속도를 가속화하기 위해 고압 가스에 의해 운반되거나 장거리 파이프 라인 운송은 저항을 극복하기 위해 압력을 증가시켜야합니다. 이러한 시나리오에는 최대 10 개의 압력이있을 수 있습니다- 15 bar 그러나 전용 압축기 및 강화 된 배관 설계로 고정됩니다.
3. 압력 조절 및 안정성
실제 작동에서 공기 공급원 압력은 공기 저장 탱크와 압력 조절 밸브를 통해 동적으로 조정되어 공기 소비의 변동에 적응해야합니다. 예를 들어, 계기 가스는 안정적인 압력 (일반적으로 ± 0.1 bar), 퍼지 가스는 특정 범위의 압력 변화를 허용 할 수 있습니다. 불충분 한 압력으로 인한 생산 연속성에 영향을 미치지 않도록 압축기 선택을 위해 적절한 마진을 확보해야합니다.
언제권장 사용
화학 공장의 가스 소스 압력은 공정 장비의 최소 요구 압력, 파이프 라인 저항 손실 및 안전 마진을 결합하는 것이 좋습니다. 주요 장비 (예: 안전 연동 시스템) 의 압력 공급을 보장하고 비 핵심 공정의 가스 효율을 최적화하는 것이 우선입니다. 동시에 과도한 압력 설정으로 인한 에너지 낭비를 피하기 위해 파이프 라인 누출 및 장비 가스 소비가 정기적으로 감지됩니다.
요컨대, 화학 공장의 가스 소스 압력은 주류로 5-8 bar이며, 공정 특성 및 시스템 설계에 따라 특정 가치를 유연하게 조정해야하며, 핵심은 장비 요구 사항, 안전 위험 및 운영 비용의 균형을 맞추는 것입니다.
